九种容易二婚的八字
婚姻的失败，往往会对一个人的一生造成很大的影响。离婚不仅对夫妻双方来说，是一种不幸的人生经历，如果有孩子的话，对于尚未成年的孩子的教育和心理更是有极大的负面影响。从命理中看的话，八字中哪种男女最容易遭遇婚姻两次以上的婚姻呢？
1、男命中偏正财两透、女命中偏正官两透，容易遭遇二次婚姻。
八字中男命以正财定义为妻，偏财定义为不稳定的非正式的妻子，为情人或者不稳定的异性缘分；女命中以正官定义为夫，而七杀则定义为非正式的丈夫，属于不稳定的异性情分，同时，八字中在正、偏具有的情形下，偏星也表示次第关系。八字中的天干，表示这种关系是公开的，毫不隐瞒的关系。这种正式的和非正式的婚姻关系俱透，说明日主极力想将这种关系变成现实，让社会承认，但是现行的法律制度是以一夫一妻制为基础的，容易造成两次以上的婚姻。
2、女命正官不透，而透伤官和七杀，日支不坐正官，夫宫又遇严重刑、冲、克、合的，定为二次婚姻；男命中正财不透，而透劫财和偏财，日支不坐正财，妻宫又遇严重的刑冲克合的，定为二次婚姻。
正官、正财不透，而透露出七杀或者偏财，表示正式的婚姻关系不太稳定，所以日主也不想大家知道存在这种婚姻关系。但是八字中又有正式的丈夫或者妻子，只是它们又不能坚守自己的岗位，不在家或者与日主的生活和工作距离很远，有也相当于没有。夫妻宫、星在八字原局或者行运中又遇严重的刑冲克合，表示自己的配偶或者会遭遇外界的其他的人打击、压制，或者外遇，甚至遭遇其本人无法预料的事情的冲击，致使配偶丧失或者离弃，或者家庭不稳，所以也容易遭遇两次以上的婚姻。
3、女命中天干先透正官，后透七杀，地支亦先见正官后见七杀，而夫宫在八字原局、或者所行岁运中又逢严重刑、冲、克、化，亦为二次婚姻之象；男命中天干先透正财、后透偏财，地支中亦为先见正财、后见偏财，而妻宫日支在八字原局中、或者所行的岁运中又遭严重的刑、冲、克、合的，也是一生中定会有二次以上婚姻之象。
前面说过，偏星也代表了一种次第关系，偏、正俱透，正星在前，也就说明了日主的婚姻关系的次序的排定。而八字中或者岁运中的夫妻宫在遇刑、冲、克、合，均表示会有来自外界的人或者事，阻扰或者破坏其本人的家庭的稳定，如果情形严重的，自然难有稳定的婚姻关系，两次以上的婚姻关系必定成立。
4、日支与它柱地支伏吟（即地支相同），即使伏吟不为官星、财星本气，夫、妻宫（日支）再遇逢冲的，克夫或者克妻后再嫁，亦为二次婚姻之象。
日支代表夫妻宫，日支与它柱地支相同，表明夫妻宫所居的人势力很大，特别是与月支、时支相同的，因为距离日主很近，就会加剧这种情形。在八字命局中成为忌神的可能性很高。在遇岁运又来扶助夫宫的话，其配偶势力更大，婚姻的平衡关系很容易打破，所以婚姻难以顺利。如果这种伏吟的十神，又是配偶星的克星的话，情形就会加剧。同时，夫妻宫伏吟，更主要体现在岁运的介入下，无论出现克、刑、冲哪种关系，都会同时出现同时引动配偶宫和婚姻宫，婚姻动摇的可能性很大，即使遇合，也会出现争合的局面，亦为二次婚姻之兆。
5、男、女命中夫、妻星遭严重刑、冲、克、破，多有两次婚姻之兆
男女命中的夫妻星，代表其配偶本人，八字中配偶星遭遇严重的刑、冲、克、破，表示配偶星势弱，难以抵御夫妻星遇刑、冲、克、破的岁运的冲击，特别是形成三冲一的局面，遇之则容易丧偶或者夫妻分离的事情发生，所以遭遇两次婚姻。
6、原命局中财、官星主气全无，八字中又干支多合，两次婚姻在所必然
八字中财官本气全无，本来就代表配偶缘分较差；八字中干支多合的人，一般多为善于交际，乐于交际的人，这种交际大多是去找自己没有的人，自然容易出现婚姻不顺，二次婚姻自是容易。
7、男命中比劫气盛、女命中食伤气盛，而夫妻星又重复出现，又或合化为它物，恐为三婚四嫁之命。
男命中的比劫，女命中的食伤，均为配偶的“敌人”，“敌人”气势虽然强盛，而配偶星又重复出现，配偶的势力也不会差。形成了比劫与财星交战，食伤与官星交战的局面。遇到岁运中扶起男命中的比劫，或者女命中的食伤，婚姻都难以稳定，离婚自是极为可能。当然，如果官星又被合化成它物的，岁运中遇到解合，婚姻状态改变的频率很高，所以三婚四嫁，也就比较容易。
8、女命中月干伤官，月支七杀的，一般多为三婚之命；
女命月支七杀为偏，七杀得令，为偏星得气为旺，月干伤官虽然紧贴克制七杀，形成七杀旺而不旺的局面，当然，就看岁运扶助哪一方了。但是月干又透出伤官，遇到岁运天干扶助官星的大运或者流年，官星势力必然减力，婚姻自然状态不佳；行运到地支伤官的大运，必然引通命局中的月干发挥作用，因为紧贴，作用更大，所以婚姻状态改变的机率很大。所以古有“伤官坐杀，杀逢月令，必是喝三口井水之人”的说法。
9、女命中原局中食伤并透，食伤自坐官、杀，夫宫自坐官星墓库的，多为两次婚姻
食伤并透，代表自己个性很强，丈夫因为自己的个性，难于安身立命；同时，配偶星必因克制而损伤无力，表示丈夫能力也不会大，自己有看不起丈夫的心性；另外，夫宫官星坐墓，一般都会配偶日支被本气所克，墓库逢冲、逢合丈夫必然有灾，如果夫宫为命局中喜用，日主也会有灾，所以两次婚姻极有可能。#算八字看命理八字合婚##算命八字占卜合婚#
婚姻的失败，往往会对一个人的一生造成很大的影响。离婚不仅对夫妻双方来说，是一种不幸的人生经历，如果有孩子的话，对于尚未成年的孩子的教育和心理更是有极大的负面影响。从命理中看的话，八字中哪种男女最容易遭遇婚姻两次以上的婚姻呢？
1、男命中偏正财两透、女命中偏正官两透，容易遭遇二次婚姻。
八字中男命以正财定义为妻，偏财定义为不稳定的非正式的妻子，为情人或者不稳定的异性缘分；女命中以正官定义为夫，而七杀则定义为非正式的丈夫，属于不稳定的异性情分，同时，八字中在正、偏具有的情形下，偏星也表示次第关系。八字中的天干，表示这种关系是公开的，毫不隐瞒的关系。这种正式的和非正式的婚姻关系俱透，说明日主极力想将这种关系变成现实，让社会承认，但是现行的法律制度是以一夫一妻制为基础的，容易造成两次以上的婚姻。
2、女命正官不透，而透伤官和七杀，日支不坐正官，夫宫又遇严重刑、冲、克、合的，定为二次婚姻；男命中正财不透，而透劫财和偏财，日支不坐正财，妻宫又遇严重的刑冲克合的，定为二次婚姻。
正官、正财不透，而透露出七杀或者偏财，表示正式的婚姻关系不太稳定，所以日主也不想大家知道存在这种婚姻关系。但是八字中又有正式的丈夫或者妻子，只是它们又不能坚守自己的岗位，不在家或者与日主的生活和工作距离很远，有也相当于没有。夫妻宫、星在八字原局或者行运中又遇严重的刑冲克合，表示自己的配偶或者会遭遇外界的其他的人打击、压制，或者外遇，甚至遭遇其本人无法预料的事情的冲击，致使配偶丧失或者离弃，或者家庭不稳，所以也容易遭遇两次以上的婚姻。
3、女命中天干先透正官，后透七杀，地支亦先见正官后见七杀，而夫宫在八字原局、或者所行岁运中又逢严重刑、冲、克、化，亦为二次婚姻之象；男命中天干先透正财、后透偏财，地支中亦为先见正财、后见偏财，而妻宫日支在八字原局中、或者所行的岁运中又遭严重的刑、冲、克、合的，也是一生中定会有二次以上婚姻之象。
前面说过，偏星也代表了一种次第关系，偏、正俱透，正星在前，也就说明了日主的婚姻关系的次序的排定。而八字中或者岁运中的夫妻宫在遇刑、冲、克、合，均表示会有来自外界的人或者事，阻扰或者破坏其本人的家庭的稳定，如果情形严重的，自然难有稳定的婚姻关系，两次以上的婚姻关系必定成立。
4、日支与它柱地支伏吟（即地支相同），即使伏吟不为官星、财星本气，夫、妻宫（日支）再遇逢冲的，克夫或者克妻后再嫁，亦为二次婚姻之象。
日支代表夫妻宫，日支与它柱地支相同，表明夫妻宫所居的人势力很大，特别是与月支、时支相同的，因为距离日主很近，就会加剧这种情形。在八字命局中成为忌神的可能性很高。在遇岁运又来扶助夫宫的话，其配偶势力更大，婚姻的平衡关系很容易打破，所以婚姻难以顺利。如果这种伏吟的十神，又是配偶星的克星的话，情形就会加剧。同时，夫妻宫伏吟，更主要体现在岁运的介入下，无论出现克、刑、冲哪种关系，都会同时出现同时引动配偶宫和婚姻宫，婚姻动摇的可能性很大，即使遇合，也会出现争合的局面，亦为二次婚姻之兆。
5、男、女命中夫、妻星遭严重刑、冲、克、破，多有两次婚姻之兆
男女命中的夫妻星，代表其配偶本人，八字中配偶星遭遇严重的刑、冲、克、破，表示配偶星势弱，难以抵御夫妻星遇刑、冲、克、破的岁运的冲击，特别是形成三冲一的局面，遇之则容易丧偶或者夫妻分离的事情发生，所以遭遇两次婚姻。
6、原命局中财、官星主气全无，八字中又干支多合，两次婚姻在所必然
八字中财官本气全无，本来就代表配偶缘分较差；八字中干支多合的人，一般多为善于交际，乐于交际的人，这种交际大多是去找自己没有的人，自然容易出现婚姻不顺，二次婚姻自是容易。
7、男命中比劫气盛、女命中食伤气盛，而夫妻星又重复出现，又或合化为它物，恐为三婚四嫁之命。
男命中的比劫，女命中的食伤，均为配偶的“敌人”，“敌人”气势虽然强盛，而配偶星又重复出现，配偶的势力也不会差。形成了比劫与财星交战，食伤与官星交战的局面。遇到岁运中扶起男命中的比劫，或者女命中的食伤，婚姻都难以稳定，离婚自是极为可能。当然，如果官星又被合化成它物的，岁运中遇到解合，婚姻状态改变的频率很高，所以三婚四嫁，也就比较容易。
8、女命中月干伤官，月支七杀的，一般多为三婚之命；
女命月支七杀为偏，七杀得令，为偏星得气为旺，月干伤官虽然紧贴克制七杀，形成七杀旺而不旺的局面，当然，就看岁运扶助哪一方了。但是月干又透出伤官，遇到岁运天干扶助官星的大运或者流年，官星势力必然减力，婚姻自然状态不佳；行运到地支伤官的大运，必然引通命局中的月干发挥作用，因为紧贴，作用更大，所以婚姻状态改变的机率很大。所以古有“伤官坐杀，杀逢月令，必是喝三口井水之人”的说法。
9、女命中原局中食伤并透，食伤自坐官、杀，夫宫自坐官星墓库的，多为两次婚姻
食伤并透，代表自己个性很强，丈夫因为自己的个性，难于安身立命；同时，配偶星必因克制而损伤无力，表示丈夫能力也不会大，自己有看不起丈夫的心性；另外，夫宫官星坐墓，一般都会配偶日支被本气所克，墓库逢冲、逢合丈夫必然有灾，如果夫宫为命局中喜用，日主也会有灾，所以两次婚姻极有可能。#算八字看命理八字合婚##算命八字占卜合婚#
#米子自救基地[超话]#[单身狗]#每日一善# [单身狗]#阳光信用#
人生祸福相依，笑泪交织，得到不必太喜，你拥有一些，必然会放弃另一些；失去的无须过悲，没有什么可以永久地停留。不要以事业的成败、收入的多寡来定义人生的幸福，它们只是一种附庸，与幸福的内涵没有必然的联系。只要凡事抱以平常心，不抱怨，不嫉恨，不懈怠，不冷漠，幸福才有所依附。
人生祸福相依，笑泪交织，得到不必太喜，你拥有一些，必然会放弃另一些；失去的无须过悲，没有什么可以永久地停留。不要以事业的成败、收入的多寡来定义人生的幸福，它们只是一种附庸，与幸福的内涵没有必然的联系。只要凡事抱以平常心，不抱怨，不嫉恨，不懈怠，不冷漠，幸福才有所依附。
掌握EUV光刻核心技术 日本憋出个大招：上马2nm[思考]
据报道，日本将与美国合作，最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地，加入下一代芯片技术商业化的竞赛。
东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。
台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。
日本和美国企业可以联合成立一家新公司，或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。
联合研究最早将于今年夏天开始，2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。
全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂，但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。
较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗，减少了碳足迹。
5月初，日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。
在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。
在日本，由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作，以开发先进半导体生产线的制造技术，包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。
日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商，而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。
台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工，并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。
日本的2nm雄心
在去年五月，就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂，以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定，虽然是28nm工艺，但也是个好的开始。
媒体在今年一月的报道也指出，台积电将与日本经济产业省成立合资公司，在东京设立先进封测厂。
而根据报导，台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心， 研发中心包括晶圆制程及3D封装。
从过往的报道看来，日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限，过去多年在业界就存在一个观点，那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。
而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台，将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中，能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠，以提升系统能耗，并缩小面积。
台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例，讲述他们这个平台的优势
。他指出，这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上，帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上，其中12层总厚度更是低于600微米，这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。
虽然日本已经紧抱台积电，为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来，日本的野心并不止于此。
最新报道指出，日本经济产业省最快在本周内，会召开与日本半导体产业有关的检讨会，除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响，以及汽车业供应链不稳定的隐忧外，日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济，让半导体供应链体质更加强韧，并从经济安全保障等观点，重新拟定中长期的政策。
日经进一步指出，日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标，他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外，他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手，重振日本在先进研发方面的实力。
据报道，这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术，并设立测试产线，研发细微电路的加工、洗净等制造技术。
厚积薄发的底气
正如文章开头所说，虽然日本没有先进的晶圆厂，但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例，虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。
但在半导体行业观察之前的报道中，我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。
首先来看缺陷检测设备，如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷，则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩（半导体线路的光掩模版、掩膜版）检验设备，在这个领域，日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商，Lasertec公司持有全球市场100%的份额。
日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备，该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机，2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面，日本的市场份额更是遥遥领先。
据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露，如下图所示，全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶，由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力，可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。
国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度（source：南大光电）在先进工艺研发方面，还有一个重要环节，那就是本节开头谈到的EUV光刻机，这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离，但他们在光刻方面的积累，能某种程度上给日本的先进制造提供指引。
除了上述谈到的一些技术和企业外，如上图所示，日经在昨天的报道中，也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。
由此可见，对于日本来说，要想在芯片制造上搞出一些浪花，是有其深厚的底气。与此同时，日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示，日本在先进芯片上也有其实力所在。
在这些企业的配合下，相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂，都有潜在的可能。当然，是否真会这样做晶圆厂，又是另一个层面的讨论。
日重振半导体，政府顾问：须880亿美金
台积电赴日建厂并获得日本政府的补助，被视为日本提高自身芯片制造能力的关键，据外媒报导，日本政府半导体小组的高级顾问认为，日本做得还不够多，如果想重振半导体产业，明年就应该提供减税优惠，并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆（约880亿美元）。
东哲郎认为，日本的半导体产业已低迷数十年，如今有增加补助经费的动作，应是扭转颓势的开端，“没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
东哲郎建议，在未来的10年内，日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前，增加对半导体产业的补助，在日本政界内已形成共识，据报导，日本首相岸田文雄也曾称，将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。
报导提到，因为芯片短缺，各国都在扩大自身的芯片制造能力，并增加补助经费，美国已投入520亿美元（约新台币1.44兆元），并成功吸引到台积电与三星赴美设厂，而中国也有相关的动作。
报导提到，日本过去为人诟病的一点是，对半导体产业的投资不足，并使得市场份额被抢走，如今日本政府也重新重视半导体产业，并承诺将重振半导体产业列为国家项目，目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆（约1100字美元）。
东哲郎认为，在下一步，日本政府应在常规预算中，为芯片制造编列额外资金，而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为，人们需要看到对这个项目的长期承诺，否则不会把政府当一回事，“若没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
至于日本政府对半导体产业的减税优惠，应涵盖哪些项目，据东哲郎认为，包括：对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本，这都是值得讨论的方向。#半导体#
据报道，日本将与美国合作，最早在 2025 财年启动国内 2 纳米半导体制造基地，加入下一代芯片技术商业化的竞赛。
东京和华盛顿将根据双边芯片技术伙伴关系提供支持。两国私营企业将进行设计和量产研究。
台积电在开发 2 纳米芯片的量产技术方面处于领先地位。日本通过实现下一代芯片的国内生产来寻求稳定的半导体供应。
日本和美国企业可以联合成立一家新公司，或者日本公司可以建立一个新的制造中心。日本经济产业省将部分补贴研发成本和资本支出。
联合研究最早将于今年夏天开始，2025财年至2027财年将形成一个研究和量产中心。
全球最大的代工芯片制造商台积电正在日本熊本县建设芯片工厂，但该工厂将只生产从 10nm 到 20nm 范围的不太先进的半导体。
较小的半导体可以实现设备的小型化和改进的性能。2纳米芯片将用于量子计算机、数据中心和尖端智能手机等产品。这些芯片还降低了功耗，减少了碳足迹。
5月初，日美签署了半导体合作基本原则。双方将在即将举行的“二加二”内阁经济官员会议上讨论合作框架的细节。
在 2 纳米研发方面实力雄厚的 IBM 去年开发了原型。同为美国公司的英特尔公司也在进行 2 纳米工艺的研发。
在日本，由国立先进工业科学技术研究所运营的筑波市研究实验室正在开展一项合作，以开发先进半导体生产线的制造技术，包括 2 纳米工艺的生产技术。东京电子和佳能等芯片制造设备制造商与 IBM、英特尔和台积电一起参与了这个集体。
日本拥有信越化学和 Sumco 等强大的芯片材料制造商，而美国则拥有芯片制造设备巨头应用材料公司。芯片制造商和主要供应商之间的这种合作旨在使 2 纳米芯片的量产技术触手可及。
台积电处于下一代芯片量产的前沿。该公司预计今年将在 2 纳米制造设施上破土动工，并有望在今年晚些时候开始大规模制造 3 纳米芯片。
日本的2nm雄心
在去年五月，就有报道日本政府正在寻求吸引国外优秀的芯片制造商能赴日本建立圆晶工厂，以促进日本在半导体行业的发展。台积电后来也做了决定，虽然是28nm工艺，但也是个好的开始。
媒体在今年一月的报道也指出，台积电将与日本经济产业省成立合资公司，在东京设立先进封测厂。
而根据报导，台积电是要在日本茨城县筑波市新设技术研发中心， 研发中心包括晶圆制程及3D封装。
从过往的报道看来，日本的这个决定也是有其背后的考量的。因为晶体管微缩受限，过去多年在业界就存在一个观点，那就是借用先进封装可以继续推进芯片性能的提升。
而台积电在去年九月更是推出了其3D Fabric平台，将SoIC、CoWoS、InFO等技术家族囊入其中，能串联高频宽存储、异构整合和3D堆叠，以提升系统能耗，并缩小面积。
台积电研发副总余振华也以TSMC的SoIC技术为例，讲述他们这个平台的优势
。他指出，这个技术可将低温多层存储堆叠在逻辑芯片上，帮助延伸摩尔定律。而公司现在已成功将4层、8层与12层低温多层记忆体堆叠在逻辑芯片上，其中12层总厚度更是低于600微米，这让公司在未来可以实现堆叠更多层的可能。
虽然日本已经紧抱台积电，为未来发展先进芯片制造做好了一部分准备。但从日前的新闻看来，日本的野心并不止于此。
最新报道指出，日本经济产业省最快在本周内，会召开与日本半导体产业有关的检讨会，除了会探索瑞萨电子工厂火灾对汽车生产的影响，以及汽车业供应链不稳定的隐忧外，日本政府还计划府着眼朝着数字化发展的当前经济，让半导体供应链体质更加强韧，并从经济安全保障等观点，重新拟定中长期的政策。
日经进一步指出，日本政府将提供资金支持、协助日本企业研发2nm以后的次世代半导体制造技术。为实现这个目标，他们除了继续保持和台积电、Intel等半导体大厂进行大范围的意见交换来进行研发外，他们还将与佳能、东电、SCREEN等本土设备巨头携手，重振日本在先进研发方面的实力。
据报道，这支该获得经产省资金援助的研发团队目标在2020年代中期确立2nm以后的次世代半导体的制造技术，并设立测试产线，研发细微电路的加工、洗净等制造技术。
厚积薄发的底气
正如文章开头所说，虽然日本没有先进的晶圆厂，但他们在先进工艺的上游有很重要的布局。以现在炙手可热的EUV光刻为例，虽然大家都知道全球目前荷兰公司ASML能提供领先的EUV光刻机。
但在半导体行业观察之前的报道中，我们可以看到日本公司在这个领域多个环节的实力。
首先来看缺陷检测设备，如果作为原始电路板的光掩模中存在缺陷，则半导体的缺陷率将相应增加。最近几年需求增长尤其旺盛的是EUV光罩（半导体线路的光掩模版、掩膜版）检验设备，在这个领域，日本的Lasertec Corp.是全球唯一的测试机制造商，Lasertec公司持有全球市场100%的份额。
日本另一个占据100%市场份额的是东京电子的EUV涂覆显影设备，该设备用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影。
1993年东电开始销售FPD生产设备涂布机/显影机，2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。在EUV光刻胶方面，日本的市场份额更是遥遥领先。
据南大光电在今年三月发布的相关报告中披露，如下图所示，全球仅有日本厂商研发出了EUV光刻胶，由此可以看到他们在这方面的实力。而欲了解更多日本在EUV方面的实力，可以参考半导体行业观察之前的文章《不容忽视的日本EUV实力》。
国际主要厂商在半导体光刻胶产品的产业化进度（source：南大光电）在先进工艺研发方面，还有一个重要环节，那就是本节开头谈到的EUV光刻机，这也是日本在先进工艺研发上将佳能纳入其中的原因。虽然这家曾经的光刻机巨头在这个领域已经被ASML抛离，但他们在光刻方面的积累，能某种程度上给日本的先进制造提供指引。
除了上述谈到的一些技术和企业外，如上图所示，日经在昨天的报道中，也披露了日本在半导体制造的多个环节参与其中。
由此可见，对于日本来说，要想在芯片制造上搞出一些浪花，是有其深厚的底气。与此同时，日本富岳“超算”上的富士通的48核Arm芯片A64FX的超强性能表现加上索喜5nm芯片的新闻表示，日本在先进芯片上也有其实力所在。
在这些企业的配合下，相信日本复兴半导体先进芯片技术乃至建造先进工艺晶圆厂，都有潜在的可能。当然，是否真会这样做晶圆厂，又是另一个层面的讨论。
日重振半导体，政府顾问：须880亿美金
台积电赴日建厂并获得日本政府的补助，被视为日本提高自身芯片制造能力的关键，据外媒报导，日本政府半导体小组的高级顾问认为，日本做得还不够多，如果想重振半导体产业，明年就应该提供减税优惠，并订下未来十年鼓励企业投资多达10兆日圆（约880亿美元）。
东哲郎认为，日本的半导体产业已低迷数十年，如今有增加补助经费的动作，应是扭转颓势的开端，“没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
东哲郎建议，在未来的10年内，日本政府及私营部门应投资半导体产业10兆日圆。目前，增加对半导体产业的补助，在日本政界内已形成共识，据报导，日本首相岸田文雄也曾称，将为国内半导体生产提供逾1.4兆日圆的投资。
报导提到，因为芯片短缺，各国都在扩大自身的芯片制造能力，并增加补助经费，美国已投入520亿美元（约新台币1.44兆元），并成功吸引到台积电与三星赴美设厂，而中国也有相关的动作。
报导提到，日本过去为人诟病的一点是，对半导体产业的投资不足，并使得市场份额被抢走，如今日本政府也重新重视半导体产业，并承诺将重振半导体产业列为国家项目，目标是到2030年将国内半导体公司的年收入提高约3倍至13兆日圆（约1100字美元）。
东哲郎认为，在下一步，日本政府应在常规预算中，为芯片制造编列额外资金，而非使用一次性的预算进行帮忙。他认为，人们需要看到对这个项目的长期承诺，否则不会把政府当一回事，“若没有政府的初期投资，私营企业不会愿意投资。”
至于日本政府对半导体产业的减税优惠，应涵盖哪些项目，据东哲郎认为，包括：对芯片制造业免征企业所得税的研发、削减用水及公用事业成本，这都是值得讨论的方向。#半导体#
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